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基于量子弱測量的光學(xué)測量儀以及樣品折射率、旋光譜和手性分子對映體含量測量分析方法

1003   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 06:45:15
本發(fā)明公開了一種基于量子弱測量的光學(xué)測量儀以及樣品折射率、旋光譜和手性分子對映體含量測量分析方法,本發(fā)明基于量子弱測量技術(shù),在測量光路中,以入射光路中的前選擇量子態(tài)與反射光路中的第一后選擇量子態(tài)之間構(gòu)造第一量子弱測量光路,以入射光路中的前選擇量子態(tài)與折射光路中的第二后選擇量子態(tài)之間構(gòu)造第二量子弱測量光路,通過調(diào)整入射光束、反射光束和折射光束偏振態(tài),可以使反射光束自旋分裂值和折射光束自旋分裂值擴(kuò)大至少103倍,從而實(shí)現(xiàn)對樣品折射率極小改變、微弱手征光信號(例如旋光角)、手性分子對映體含量的測定,有望在單分子層面實(shí)現(xiàn)對手性藥物的分析;在生物醫(yī)學(xué)工程、生命科學(xué)、分析化學(xué)等多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價(jià)值。
聲明:
“基于量子弱測量的光學(xué)測量儀以及樣品折射率、旋光譜和手性分子對映體含量測量分析方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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