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EDTA?Ni分子印跡材料及其制備方法及其應(yīng)用

703   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 02:40:37
本發(fā)明提供了一種EDTA?Ni分子印跡材料及其制備方法及其應(yīng)用,所述EDTA?Ni分子印跡材料其以EDTA?Ni為模板分子,β?環(huán)糊精為單體在交聯(lián)劑的作用下制備得到印跡材料。本發(fā)明的技術(shù)方案得EDTA?Ni分子印跡材料,具有高度選擇性,不僅能夠有效去除鍍鎳廢水中的低濃度EDTA?Ni,且具有選擇性好、吸附速率快、重復(fù)利用性高等特點(diǎn),體現(xiàn)出良好的應(yīng)用前景。該材料可以實(shí)現(xiàn)對(duì)低濃度含絡(luò)合態(tài)鎳的高效去除,有望解決傳統(tǒng)除鎳劑處理再生困難,重金屬捕捉劑價(jià)格昂貴的問(wèn)題。
聲明:
“EDTA?Ni分子印跡材料及其制備方法及其應(yīng)用” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)
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