本發(fā)明公開了一種掩膜板及其制造方法、TFT基板制造方法,其中掩膜板制造方法包括:步驟10、將掩膜板信息寫入存儲(chǔ)晶體,使得所述存儲(chǔ)晶體制備成掩膜板。其中TFT制造方法除了包括步驟10,還包括步驟20、將光束射向所述掩膜板,透過所述存儲(chǔ)晶體攜帶所述掩膜板信息的光束對(duì)涂有光刻膠的TFT基板進(jìn)行曝光。本發(fā)明提供的掩膜板及其制造方法、TFT基板制造方法,通過采用鈮酸鋰、鈦酸鋇等具有光折變性質(zhì)的晶體存儲(chǔ)掩膜板信息,達(dá)到了制作過程環(huán)保無污染,可利用一塊晶體制作多塊掩膜板,可重復(fù)利用存儲(chǔ)晶體,降低成本等效果。
聲明:
“掩膜板及其制造方法、TFT基板制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)