一種在設(shè)備中制造
電化學(xué)元件的方法,此方法可包含:提供電化學(xué)元件基板;在此基板之上沉積元件層;原位施加電磁輻射至元件層以實現(xiàn)元件層的表面重構(gòu)、再結(jié)晶及致密化中的一或更多者;重復(fù)此沉積及此施加直至達成所需元件層厚度為止。此外,施加可在沉積期間進行。一種薄膜電池可包含:基板;集電器,在此基板上;陰極層,在此集電器上;電解質(zhì)層,在此陰極層上;及鋰陽極層,在此電解質(zhì)層上;其中LLZO電解質(zhì)層具有結(jié)晶相,沒有歸因于LLZO電解質(zhì)層中的裂縫的短路,且在電解質(zhì)層與陰極層之間的介面處無高電阻夾層。
聲明:
“激光處理與電化學(xué)元件層沉積的整合” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)