本發(fā)明公開了一種集成電路封裝用的高熱導(dǎo)率氮化鋁陶瓷基板制備方法,其步驟:(1)先取無(wú)水
碳酸鋰、無(wú)水氧化釔放于馬弗爐,合成鋰酸釔,再經(jīng)濕法球磨,制成漿料;(2)將球磨后漿料放入烘干機(jī)干燥,將烘干的干料經(jīng)篩選,獲得鋰酸釔粉末;(3)按質(zhì)量百分比,取鋰酸釔、氟化鈣和AlN粉體放于無(wú)水乙醇介質(zhì)中,球磨24h,制成漿料;(4)將球磨后漿料放入烘干機(jī)干燥,將烘干的干料篩選,得到混合粉末;(5)將所得的粉末再干壓、靜壓成型,得到素胚;(6)將素胚放在高溫氮?dú)鉅t,在氮?dú)夂蜌錃鈿夥罩校郎刂?450℃,燒結(jié)保溫1小時(shí),再升溫至1735℃,燒結(jié)保溫8h,然后降溫冷卻至室溫,獲得高熱導(dǎo)率AlN陶瓷基板。該方法制備的AlN陶瓷基板熱導(dǎo)率高、結(jié)構(gòu)致密,晶粒細(xì)小,且分布均勻。
聲明:
“集成電路封裝用的高熱導(dǎo)率氮化鋁陶瓷基板制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)