本發(fā)明提供了一種可用于800℃及以上的準(zhǔn)光學(xué)微腔基選擇性吸收涂層，其由下至上依次包括紅外反射層、準(zhǔn)光學(xué)微腔吸收體和光學(xué)減反層，所述光學(xué)減反層包括Al2O3減反層、SiO2減反層中的至少一種；所述準(zhǔn)光學(xué)微腔吸收體從下到上依次包括第一準(zhǔn)光學(xué)微腔選擇性吸收層、超高溫陶瓷材料層、第二準(zhǔn)光學(xué)微腔選擇性吸收層；所述第一準(zhǔn)光學(xué)微腔選擇性吸收層和第二準(zhǔn)光學(xué)微腔選擇性吸收層為超高溫陶瓷材料?Al2O3或SiO2復(fù)合材料；所述紅外反射層的材質(zhì)為超高溫陶瓷材料；所述超高溫陶瓷材料為碳化物、氮化物、硼化物中的至少一種。采用本發(fā)明的技術(shù)方案具有高光譜選擇性；而且具有高溫?zé)岱€(wěn)定性。