設(shè)備用途：

利用電阻加熱產(chǎn)生熱能，將待成膜的物質(zhì)置于真空中進(jìn)行蒸發(fā)或升華，使之在基片表面析出的過(guò)程。用于制備各類金屬膜、有機(jī)薄膜等，適合有機(jī)發(fā)光二級(jí)管(OL ED) 和光伏電池等的有機(jī)/無(wú)機(jī)薄膜生長(zhǎng)，廣泛應(yīng)用千大專院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量的生產(chǎn)。

主要技術(shù)指標(biāo)：

真空指標(biāo)生長(zhǎng)室：

極限真空度:優(yōu)于6. 6X10-5Pa; 抽速： 40分鐘可達(dá)到5 X 10-4Pa, 檢漏漏率:優(yōu)于10- 7Pa. 1 / s;

進(jìn)樣室：

極限真空度:優(yōu)于 6. 6 X 10-4Pa; 抽速： 40分鐘可達(dá)到5 X 10-3 Pa, 檢漏漏率:優(yōu)于10-7 Pa. 1 / s;

生長(zhǎng)室真空室尺寸約為Φ500mm X H625mm, 上法蘭為封頭結(jié)構(gòu)，前面設(shè)有矩形活開(kāi)門真空室設(shè)計(jì)采用高真空設(shè)計(jì)，四壁水道冷卻，壁掛防污板，選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面處理采用噴玻璃丸+化學(xué)電解拋光鈍化處理新工藝;

進(jìn)樣室?guī)Ь艑訕悠穾?kù); 樣品尺寸最大 150 X 150mm ;樣品臺(tái)裝置可手動(dòng)上下升降，手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，并有每90度角度位置定位裝置，滿足樣品更換掩膜板及樣品交接傳遞需要

蒸發(fā)源無(wú)機(jī)蒸發(fā)源 ： W/T a/ Mo舟蒸發(fā);

E型電子槍： 功率0- 8KW, 四穴玵渦， 每個(gè)容量約為 20 ml;

單穴尺寸：Φ42mm X Φ35 mm X 25mm (圓臺(tái)型)

低溫有機(jī)蒸發(fā)源：溫度范圍： 50—600°C。三氧化二鋁坩堝 ，標(biāo)準(zhǔn)容量10cc ;

高溫有機(jī)蒸發(fā)源： 常用溫度1200°C, PBN玵禍， 標(biāo)準(zhǔn)容量1- 10cc ;

樣品傳遞裝置手動(dòng)或電動(dòng)控制傳遞桿

真空獲得及測(cè)量分子泵+機(jī)械泵或冷泵+干式真空泵;數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)(皮拉尼規(guī)+電離規(guī))

樣品臺(tái)基片尺寸： 可放置最大150 X 150mm; ( 可選單樣品加熱，溫度范圍0- 300°C )

基片掩膜庫(kù)裝置 1套：上面4層為掩膜庫(kù)，每層可裝1種 掩膜板

蒸發(fā)電源3KW，帶有微調(diào)功能±0.1A

控制系統(tǒng) 自動(dòng)

手套箱密閉循環(huán)手套箱內(nèi)的隋性氣體經(jīng)循環(huán)風(fēng)機(jī)和凈化器密閉循環(huán)，不斷地除水除氧;自動(dòng)控制再生：除水除氧材料可以再生，再生過(guò)程由程序控制;自動(dòng)清洗：手套箱內(nèi)的氣氛置換通過(guò)自動(dòng)控制的清洗閥門完成;箱體壓力控制：手套箱內(nèi)壓力通過(guò)PLC自 動(dòng)控制，工作壓力+/- 10 mbar 內(nèi)可以自由設(shè)定，超出+/ - 12mbar 系統(tǒng)自動(dòng)保護(hù);真空泵自動(dòng)控制：真空泵要求在系統(tǒng)需要時(shí)自動(dòng)開(kāi)啟;

功能：氣體密閉，除水、除氧; 容器材料： 304不銹鋼;

凈化材料：銅觸媒 5kg,分子篩：5kg;

凈化能力：除氧：60L, 除水：2Kg;

水氧指標(biāo)：小千1ppm;

水冷機(jī)組可選

石英晶振膜厚儀多探頭可選