所公開的方法和設(shè)備用于將在下一代溶劑流體中的鉭金屬膜沉積到底材和/或沉積表面上,該金屬膜作為例如金屬種子層有用的。沉積包括將溶解在液體和/或可壓縮溶劑流體中的低價(jià)氧化態(tài)金屬前體處于該混合的前體溶液的液體、近臨界或者超臨界條件。金屬膜沉積是通過金屬前體的熱和/或光解活化來實(shí)現(xiàn)的。本發(fā)明可用于制作和加工半導(dǎo)體、金屬、聚合物、陶瓷等底材或者
復(fù)合材料。
聲明:
“用于將鉭金屬膜沉積到表面和底材上的方法和設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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