本發(fā)明涉及一種低密度鈮基復(fù)合材料及制備方法。該復(fù)合材料由Nb/Nb₅Si₃(Nb₂C)層狀結(jié)構(gòu)疊置后壓力燒結(jié)得到；所述Nb/Nb₅Si₃(Nb₂C)層狀結(jié)構(gòu)由Nb箔表面涂覆涂層構(gòu)成。其制備工藝是將Nb粉、Si粉和C粉球磨制備成料漿，將料漿均勻涂覆在Nb箔表面，將噴涂/浸涂后的Nb箔疊壓后經(jīng)1850～2050℃真空熱壓燒結(jié)后制得。本發(fā)明所得產(chǎn)品中具有交替分布的Nb/Nb₅Si₃(Nb₂C)層狀微觀結(jié)構(gòu)。本發(fā)明產(chǎn)品制備工藝簡單、生產(chǎn)成本低，層狀組織致密均勻，可有效的實現(xiàn)增強、增韌和降低密度的目標(biāo)。