本發(fā)明公開(kāi)基于電泳沉積SiC納米線的碳碳
復(fù)合材料與金屬的釬焊連接方法,在連接前,在C/C復(fù)合材料表面沉積一層SiCNWs,其與釬料中的活性元素反應(yīng)生成尺度極小的新相并析出,TiCu以之為形核質(zhì)點(diǎn)以非均勻形核方式析出,從而使得原本連續(xù)的脆性TiCu化合物細(xì)化,改善接頭的薄弱相,以提高接頭強(qiáng)度。另外,相比較于化學(xué)氣相沉積,電泳沉積具有周期短、成本低的優(yōu)點(diǎn),且不會(huì)損傷C纖維。
聲明:
“基于電泳沉積SiC納米線的碳碳復(fù)合材料與金屬的釬焊連接方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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