本發(fā)明公開一種抗反射復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用，所述方法包括如下步驟：清洗金屬基底并干燥后使用高能激光對所述金屬基底進(jìn)行掃描加工，得到光陷阱微米結(jié)構(gòu)金屬基底；將金屬基底加熱，還原所述金屬基底表面氧化物，3min后電離氫氣進(jìn)一步還原金屬基底表面氧化物，3min后關(guān)閉氫氣和等離子體源；3min后，通入氫氣和碳?xì)浠衔?，設(shè)置等離子體源輸出功率，待其生長預(yù)定時間后，關(guān)閉加熱及等離子體源，真空下冷卻至室溫，得到抗反射復(fù)合材料。本發(fā)明方法工藝簡單、成本低，所得抗反射材料在具有低反射率、高光吸收率的同時具有良好的耐久性及靈活性。