本發(fā)明公開了一種穩(wěn)定的光催化分解水制氫的三元復(fù)合材料的制備方法，以CdS半導(dǎo)體材料在低溫水熱條件下復(fù)合MOF?808和還原氧化石墨烯而制備。該復(fù)合材料能夠在光輻射條件下保持穩(wěn)定，具有優(yōu)異的耐光腐蝕性能，合成過程中不使用高沸點(diǎn)有機(jī)溶劑，不污染環(huán)境。該復(fù)合材料比純CdS具有更低的帶隙值，能夠有效的響應(yīng)可見光，增強(qiáng)對(duì)光的吸收。CdS通過與MOF?808和RGO復(fù)合，不僅提高了CdS的有效催化活性面積，縮短了光生載流子的遷移距離，而且極大加快了載流子遷移速率，提高了量子利用效率，進(jìn)而提高了復(fù)合材料的光催化制氫活性。光催化分解水制氫性能測(cè)試表明該三元復(fù)合材料光催化制氫性能優(yōu)異。