本發(fā)明公開了一種選擇性近紅外光響應(yīng)形狀記憶聚合物復(fù)合材料，采用稀土有機(jī)配合物作為選擇性光熱填料，采用熱致形狀記憶聚合物作為聚合物基體材料；所述稀土有機(jī)配合物的通式為RMmNn，其中：R表示鐿或釹；M表示羧酸類有機(jī)配體，m＝0?4；N表示共軛類有機(jī)配體，n＝0?4。本發(fā)明還公開了選擇性近紅外光響應(yīng)形狀記憶聚合物復(fù)合材料的制備方法，也即通過物理方法和/或化學(xué)方法將選擇性光熱填料和聚合物基體材料混合制備得到。其中，聚合物基體材料為100份，物理方法混合時(shí)光熱填料為0.1?50份，化學(xué)方法混合時(shí)光熱填料為0.1?20份。本發(fā)明有效降低了選擇性光熱填料的成本，有利于選擇性光響應(yīng)形狀記憶聚合物的推廣應(yīng)用。