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本實(shí)用新型公開了一種新型用于廢舊電路板上錫點(diǎn)的溶解裝置,包括底部支撐、防滲漏底板、內(nèi)循環(huán)出口;所述底部支撐上方設(shè)置有所述防滲漏底板;所述防滲漏底板上方設(shè)置有所述內(nèi)循環(huán)出口;所述防滲漏底板上方設(shè)置有同步電機(jī);所述同步電機(jī)上設(shè)置有電機(jī)齒輪軸;所述電機(jī)齒輪軸上方設(shè)置有傳送帶軸;所述傳送帶軸與所述電機(jī)齒輪軸之間使用螺紋連接;所述防滲漏底板上方設(shè)置有溶液腔體;所述溶液腔體旁設(shè)置有密封端蓋;所述傳送帶輪軸設(shè)置在所述溶液腔體內(nèi);本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單,設(shè)計(jì)合理,使用運(yùn)動(dòng)式完全浸入方法,將電路板上的錫殘留物在運(yùn)動(dòng)中進(jìn)行溶解,同時(shí)其具有自監(jiān)控和調(diào)節(jié)功能,使得殘留的錫溶解徹底,浪費(fèi)小,損失小。
本發(fā)明是一種長效光數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)合金材料及制備方法。合金材料由如下組份組成:銅70%~80%,硅5%~12%,抗腐蝕性材料2%~20%,高敏感度材料2%~10%。該合金材料主要用于制作藍(lán)光存儲(chǔ)光盤中數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)膜層。本發(fā)明制備方法是將銅、硅、抗腐蝕性材料以及高敏感度材料的粉末充分混合填充于模具進(jìn)行壓縮成型,在真空燒結(jié)爐里燒結(jié)后進(jìn)行緞造壓延,最后進(jìn)行機(jī)械加工得到所需要的適合真空磁控濺鍍的靶標(biāo)形狀。本發(fā)明合金材料成本低、穩(wěn)定性好、容易實(shí)現(xiàn);且在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)藍(lán)光光盤的記錄層,提高記錄層感光性能,降低光盤片的刻錄功率和提高數(shù)據(jù)的穩(wěn)定性能;本發(fā)明合金材料生產(chǎn)的藍(lán)光光盤壽命是市場上普通銅及非晶質(zhì)硅記錄膜層藍(lán)光光盤壽命的1.5倍以上。
本發(fā)明涉及一種長效數(shù)據(jù)存儲(chǔ)合金材料及制備方法,旨在提供一種反射率高、延長數(shù)據(jù)存儲(chǔ)光盤壽命的合金材料;該合金材料是由下述重量百分比的金屬構(gòu)成:鋁87%~93%,鈦3%~7%,銀4%~6%;制備方法是將鋁、鈦、銀粉末充分混合填充于模具進(jìn)行壓縮成型,在真空燒結(jié)爐里燒結(jié)后進(jìn)行鍛造壓延,最后進(jìn)行機(jī)械加工得到所需要的靶材形狀;該合金材料主要用于制作數(shù)據(jù)存儲(chǔ)光盤的反射層。
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