無錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——鋁合金拋光液/鋁合金slurry/鋁合金懸浮液/鋁合金拋光液拋光漿料Slurry/鋁合金CMP拋光液/鋁合金化學(xué)機械拋光液/鋁合金lapping研磨拋光液/鋁合金化學(xué)機械拋光液Slurry/鋁合金CMP集成電路拋光液/JEEZ鋁合金拋光液
吉致針對碳化硅sic拋光的4道工藝制程搭配不同型號研磨液、拋光液和拋光墊(粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊)。在研磨和拋光應(yīng)用中提高碳化硅襯底表面質(zhì)量,同時大大提高材料去除率。
吉致電子陶瓷類拋光液適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光,通過CMP拋光工序可得到理想鏡面效果,表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點。
合金銅CMP拋光液作用:吉致電子金屬類拋光液適用于平面形態(tài)的銅、合金銅工件的鏡面拋光,CMP拋光工序通過大量磨擦和化學(xué)反應(yīng)作用,可以使銅金屬表面得到加工和平整坦化?;瘜W(xué)氧化銅金屬后磨蝕性去除氧化物部分的機制可得到理想鏡面效果,工件表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點。
金屬鉬片拋光液作用:吉致電子金屬類拋光液適用于平面形態(tài)的鉬、鉬合金工件的鏡面拋光,拋光工序通過大量磨擦和化學(xué)反應(yīng)作用,可以使鉬金屬表面快速去粗和平整坦化?;瘜W(xué)氧化腐蝕鉬合金表面,研磨去除氧化物部分的機制可得到理想鏡面效果,金屬鉬工件表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點。
應(yīng)用領(lǐng)域:超細研磨設(shè)備、精細化工、電子漿料、半導(dǎo)體、新能源、納米新材料、醫(yī)療器械、精密鑄造,結(jié)構(gòu)陶瓷,耐火材料,電子通訊,敏感陶瓷,石油化工,航空航天,機械制造,光纖連接器,電池材料等各個高精端領(lǐng)域。
氧化鋯陶瓷件-研磨罐應(yīng)用領(lǐng)域:超細研磨設(shè)備、精細化工、電子漿料、半導(dǎo)體、新能源、納米新材料、醫(yī)療器械、精密鑄造,結(jié)構(gòu)陶瓷,耐火材料,電子通訊,敏感陶瓷,石油化工,航空航天,機械制造,光纖連接器,電池材
應(yīng)用領(lǐng)域: 我公司生產(chǎn)的鈰穩(wěn)定氧化鋯珠先用微米級及亞納米級原料,用先進的工藝制成,各項技術(shù)指標(biāo)及性能達到國際先進水平。主要應(yīng)用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細研磨及分散,如:電子陶瓷、磁性材
氧化鋯珠是以微米級及亞納米級氧化鋯與氧化釔為原料制成的,用來對要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細研磨及分散的一種研磨珠。氧化鋯珠(簡稱“TZP”鋯珠)先用微米級及亞納米級原料,用良好的工藝制成。
6.0穩(wěn)定氧化鋯珠可做規(guī)格為0.2mm-30mm適用機械:高轉(zhuǎn)速快速攪拌磨,磨剝機,臥式砂磨機、慢式滾筒式球磨機等。適用行業(yè):高檔油漆油墨、涂料、高檔色釉料、氫氧化鎂、鈦白粉,超細氧化鋯、超細硅酸鋯、
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