西臣鎧甲帶 996     

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本產品快速水固化或空氣固化，無臭、無毒、不易燃燒，堅固耐用，耐水耐腐蝕性強、絕緣性高，由于其使用方便，便于攜帶，并可隨意塑形，是特殊環(huán)境場合支架結構維修、防護防腐蝕、電纜密封拼接和高溫下使用的理想材

吉致電子JEEZ鋁合金拋光液/鋁合金slurry/鋁合金懸浮液/鋁合金拋光液拋光漿料Slurry 2726     

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無錫吉致電子25年研發(fā)生產——鋁合金拋光液/鋁合金slurry/鋁合金懸浮液/鋁合金拋光液拋光漿料Slurry/鋁合金CMP拋光液/鋁合金化學機械拋光液/鋁合金lapping研磨拋光液/鋁合金化學機械拋光液Slurry/鋁合金CMP集成電路拋光液/JEEZ鋁合金拋光液

阻尼布拋光墊 1493     

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吉致電子拋光墊滿足低、中及高硬度材料拋光需求，針對碳化硅SIC拋光的4道工藝制程搭配不同型號拋光墊（粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性價比等優(yōu)勢。

碳化硅拋光墊 1401     

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吉致電子拋光墊滿足低、中及高硬度材料拋光需求，針對碳化硅SIC拋光的4道工藝制程搭配不同型號拋光墊（粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性價比等優(yōu)點。

鎢拋光液 1224     

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吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO2水溶膠為磨料，拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國內外同類產品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點.

吉致電子SiC碳化硅襯底研磨拋光產品 2221     

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吉致針對碳化硅sic拋光的4道工藝制程搭配不同型號研磨液、拋光液和拋光墊（粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊）。在研磨和拋光應用中提高碳化硅襯底表面質量，同時大大提高材料去除率。

吉致電子JEEZ陶瓷拋光液 CMP納米級拋光液 2210     

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吉致電子陶瓷類拋光液適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光，通過CMP拋光工序可得到理想鏡面效果，表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點。

吉致電子JEEZ銅拋光液/合金銅拋光液/銅表面拋光液/金屬研磨液/鏡面拋光液 2166     

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合金銅CMP拋光液作用:吉致電子金屬類拋光液適用于平面形態(tài)的銅、合金銅工件的鏡面拋光，CMP拋光工序通過大量磨擦和化學反應作用，可以使銅金屬表面得到加工和平整坦化。化學氧化銅金屬后磨蝕性去除氧化物部分的機制可得到理想鏡面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點。

吉致電子JEEZ鉬拋光液/金屬鉬拋光/激光反射鏡拋光液/CMP研磨液/鏡面拋光液 2343     

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金屬鉬片拋光液作用:吉致電子金屬類拋光液適用于平面形態(tài)的鉬、鉬合金工件的鏡面拋光，拋光工序通過大量磨擦和化學反應作用，可以使鉬金屬表面快速去粗和平整坦化?；瘜W氧化腐蝕鉬合金表面，研磨去除氧化物部分的機制可得到理想鏡面效果，金屬鉬工件表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點。