鎢拋光液說明介紹

無錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——鎢拋光液/W CMP Slurry/W 拋光液/半導(dǎo)體研磨液/CMP拋光液/化學(xué)機(jī)械拋光液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液slurry/CMP集成電路拋光液

鎢W拋光液作用:吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO₂水溶膠為磨料，拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國(guó)內(nèi)外同類產(chǎn)品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn).

我司產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)： 

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團(tuán)聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷。

3.運(yùn)用拋光過程中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時(shí)降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。

可定制化：我們的拋光液可以根據(jù)客戶需求定制不同的PH、粒徑、濃度、穩(wěn)定離子等。

包裝方式：25KG/桶(也可依客戶需求)

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