本發(fā)明公開(kāi)了一種MBE外延片生產(chǎn)方法,包括如下步驟:步驟S1、襯底處理、步驟S2、生長(zhǎng)介質(zhì)層、步驟S3、熱化學(xué)處理、步驟S4、生長(zhǎng)氮化物潤(rùn)濕層、步驟S5、依次生長(zhǎng)AlGaN緩沖層、n?GaN層、InGaN/GaN MQWs量子阱層和p?GaN層、步驟S6、檢測(cè)合格后,包裝。本發(fā)明公開(kāi)的MBE外延片生產(chǎn)方法工藝簡(jiǎn)單,操作控制方便,耗能低,對(duì)設(shè)備依賴性小,適合工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn);通過(guò)該生產(chǎn)方法制成的MBE外延片表面質(zhì)量好、缺陷少,襯底易去除,
電化學(xué)性能優(yōu)異。
聲明:
“MBE外延片生產(chǎn)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)