本發(fā)明公開了一種模擬液中金屬侵蝕性離子臨界濃度的測(cè)試裝置。本發(fā)明所述測(cè)試裝置包括環(huán)境模擬模塊、主控制模塊、監(jiān)測(cè)模塊；其中主控制模塊包括多通道電化學(xué)工作站、數(shù)據(jù)采集及處理裝置、控制裝置；監(jiān)測(cè)模塊包括pH監(jiān)測(cè)裝置、氧濃度監(jiān)測(cè)裝置、溫度監(jiān)測(cè)裝置；環(huán)境模擬模塊由多個(gè)環(huán)境模擬裝置并聯(lián)組成，所述環(huán)境模擬裝置包括電化學(xué)池、自動(dòng)加料裝置及攪拌裝置。本發(fā)明能夠根據(jù)設(shè)定的間隔時(shí)間自動(dòng)向電化學(xué)池中侵蝕性離子等物料并定時(shí)對(duì)電化學(xué)池中金屬的進(jìn)行電化學(xué)測(cè)試，以判斷模擬液中金屬侵蝕性離子的臨界離子濃度。