一種等離子體射流陣列均勻處理水溶液的裝置，等離子體射流陣列結(jié)構(gòu)包括多個結(jié)構(gòu)相同的等離子體射流裝置；等離子體射流裝置包括絕緣介質(zhì)一，絕緣介質(zhì)一的上部與下部均環(huán)繞有金屬環(huán)一與金屬環(huán)二；電源包括高壓極與地極，高壓極、地極分別與金屬環(huán)一、金屬環(huán)二連接。等離子體射流陣列結(jié)構(gòu)可用于大面積的水溶液處理；噴泉式的水柱保證水溶液處理的均勻性和連續(xù)性；等離子體射流陣列結(jié)構(gòu)與水處理裝置的水溶液相分離，兩者之間的距離可調(diào)節(jié)，等離子體放電不受水溶液的影響，放電具有穩(wěn)定性；應(yīng)用范圍廣泛，可用于工業(yè)廢水、污水處理，水溶液消毒滅菌以及制備消毒水等，且不會產(chǎn)生二次污染；結(jié)構(gòu)簡單，成本低，易操作，產(chǎn)品易擴大，易于工業(yè)轉(zhuǎn)化。