本發(fā)明涉及電子領(lǐng)域,尤其涉及陰極雜化修飾層以及有機(jī)電致發(fā)光器件和方法。在HML摻雜層中產(chǎn)生的陰離子可以填充到Bphen的本征電子陷阱,增強(qiáng)電子的注入;分解產(chǎn)生的鋰離子Li
+會向有機(jī)層中擴(kuò)散,形成一種間隙態(tài),導(dǎo)致發(fā)光層中的激子猝滅;HML結(jié)構(gòu)中的MoO
3層可以去除金屬電極Al與有機(jī)薄膜界面處的化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生的間隙態(tài),從而使器件具有更多的電子和空穴在發(fā)光層中復(fù)合。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,器件的最大電流效率和最大功率效率分別為4.28cd/A和2.19lm/W,相比參考器件提高了25.5%和23.7%。
聲明:
“陰極雜化修飾層以及有機(jī)電致發(fā)光器件和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)