本發(fā)明涉及聲學(xué)濾波器技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種用于聲學(xué)濾波器的異質(zhì)單晶薄膜的制備方法。該異質(zhì)單晶薄膜的制備方法包括以下步驟:提供異質(zhì)薄膜結(jié)構(gòu);該異質(zhì)薄膜結(jié)構(gòu)包括壓電薄膜;對該異質(zhì)薄膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行后退火處理;該后退火溫度范圍為300?800攝氏度;該后退火的氛圍內(nèi)含有與該壓電薄膜對應(yīng)的元素材料。從而能夠在實(shí)現(xiàn)提高鍵合強(qiáng)度,恢復(fù)晶格缺陷的同時,還能夠有效抑制壓電薄膜中鋰元素和氧元素等的外釋問題,提高異質(zhì)單晶薄膜的質(zhì)量。
聲明:
“用于聲學(xué)濾波器的異質(zhì)單晶薄膜的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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