本發(fā)明公開(kāi)了一種(NH4+)xMoS2插層化合物,式中x值為0.2~3.0。其制備方法是首先利用正丁基鋰對(duì)二硫化鉬進(jìn)行插層,得到鋰插層二硫化鉬,然后采用水剝層制備了二硫化鉬懸浮液,并在氯化銨溶液中插層制備了(NH4+)xMoS2插層化合物,本產(chǎn)品可作為一種良好的固體潤(rùn)滑材料,也可與堿溶液共熱得到單層二硫化鉬。本發(fā)明解決了單層二硫化鉬的儲(chǔ)存問(wèn)題,得到了穩(wěn)定的(NH4+)xMoS2插層化合物,本發(fā)明的插層化合物是一種灰黑色粉末狀固體,在機(jī)械、電子、航空航天、化工、材料等固體潤(rùn)滑領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用價(jià)值。
聲明:
“(NH4+)xMoS2插層化合物及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)