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復合多層結構多孔銅箔及其制備方法與系統(tǒng)

784   編輯:管理員   來源:中冶有色技術網(wǎng)  
2023-03-18 23:28:25
本發(fā)明公開了一種復合多層結構多孔銅箔及其制備方法與系統(tǒng)。所述制備方法包括:采用電沉積技術,在陰極輥表面沉積形成具有實心致密結構的銅箔中間層的第一步驟;在所述銅箔中間層兩側表面分別沉積形成具有疏松多孔結構的銅箔外層的第二步驟。本發(fā)明復合多層結構多孔銅箔的銅箔中間層為光滑致密結構,兩側外層為多孔結構,其銅箔中間層不僅因為銅密度高具有導電性能好的特點,還可為銅箔提供力學性能支撐,解決傳統(tǒng)多孔銅箔力學強度差的缺點,兩側銅箔外層可以發(fā)揮多孔銅箔的優(yōu)勢,解決鋰離子電池工作時易產(chǎn)生枝晶和某些負極材料嵌鋰時發(fā)生體積膨脹的問題,該復合多層結構多孔銅箔不僅可以發(fā)揮多孔銅箔的優(yōu)勢,與普通多孔銅箔相比力學性能更佳。
聲明:
“復合多層結構多孔銅箔及其制備方法與系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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