本發(fā)明公開了一種鈮酸鋰光波導(dǎo)器件電極的制作方法，首先以SiO2作為掩模，用退火質(zhì)子交換制作光波導(dǎo)；接著利用SiO2掩模作為標(biāo)記直接將光波導(dǎo)和電極圖形進行自對準(zhǔn)套刻；隨后采用干法刻蝕和濕法腐蝕相結(jié)合的方法去除電極區(qū)的SiO2掩模；最后利用濺射以及金屬剝離技術(shù)制作出電極圖形并去除剩余SiO2掩模；采用本發(fā)明方法可以在鈮酸鋰光波導(dǎo)上形成電極圖形，保證了光波導(dǎo)與電極套刻準(zhǔn)確，電極邊緣光滑，缺陷少，成品率高。