本發(fā)明公開了一種鈮酸鋰光波導器件的制作方法及其器件,本發(fā)明方法在x切鈮酸鋰基片上表面和下表面制作有增透作用的介質膜;在介質膜上沿Y軸方向刻蝕出光波導掩模窗口;在掩模窗口內的鈮酸鋰基片上表面制作光波導;制作調制電極;對鈮酸鋰基片的光輸入端面和光輸出端面進行切割,在光輸入端面和光輸出端面分別制作有增透作用的介質膜;采用本發(fā)明的方法,能顯著提高鈮酸鋰光波導
芯片的偏振消光比,改善芯片的光學特性。
聲明:
“鈮酸鋰光波導器件的制作方法及其器件” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)