本發(fā)明提供一種鋁酸鋰晶片的化學(xué)機(jī)械拋光方法,包括:采用具有第一濃度的拋光液對(duì)所述鋁酸鋰晶片進(jìn)行第一階段化學(xué)機(jī)械拋光;采用具有第二濃度的所述拋光液對(duì)所述鋁酸鋰晶片進(jìn)行第二階段化學(xué)機(jī)械拋光;所述第二濃度低于第一濃度,所述拋光液為堿性Al2O3拋光液。與現(xiàn)有技術(shù)相比,使用堿性的Al2O3拋光液對(duì)鋁酸鋰晶片進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光后,再用清水即可完成對(duì)鋁酸鋰晶片的拋光,不必再經(jīng)過(guò)退火步驟。此外,由于Al2O3拋光液的中Al2O3粒徑小,磨削效率高,分散性好,因此能夠?qū)崿F(xiàn)低粗糙度和無(wú)劃痕的目的。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,拋光后的鋁酸鋰晶片的表面粗糙度小于0.4nm。
聲明:
“鋁酸鋰晶片的化學(xué)機(jī)械拋光方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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