本公開提供了一種高純度鋰金屬薄膜和一種用于控制高純度鋰金屬薄膜形態(tài)的方法。在一般實(shí)施例中,本公開提供了具有受控的厚度和形態(tài)的高純度鋰金屬薄膜。高純度鋰金屬薄膜通過使用選擇性鋰離子傳導(dǎo)層電解沉積鋰來生產(chǎn)。鋰金屬薄膜的形態(tài)可以通過改變用于沉積的電流率來控制。本發(fā)明的鋰金屬膜有利地提供高純度鋰金屬膜,其中膜的厚度和/或形態(tài)可根據(jù)所期望的應(yīng)用而改變。
聲明:
“生產(chǎn)鋰膜的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)