本發(fā)明提供鉭酸鋰單晶基板的制造方法,其即便在鉭酸鋰單晶基板的熱處理中反復(fù)使用
碳酸鋰粉末,也能夠抑制由鉭酸鋰單晶基板的還原不足導(dǎo)致的體積電阻率的增加。本發(fā)明是體積電阻率為1×1010Ω?cm以上且小于1×1012Ω?cm的鉭酸鋰單晶基板的制造方法,其包括:將體積電阻率為1×1012Ω?cm以上且單晶域結(jié)構(gòu)的鉭酸鋰單晶基板填埋至BET比表面積為0.13m2/g以上的碳酸鋰粉末中,并且,在常壓下、350℃以上且居里溫度以下的溫度下進(jìn)行熱處理的工序,碳酸鋰粉末是在常壓下、350℃以上且居里溫度以下的溫度下的鉭酸鋰單晶基板的熱處理時(shí)用于填埋鉭酸鋰單晶基板的使用過的碳酸鋰粉末,進(jìn)行熱處理的工序中,開始熱處理時(shí),在非活性氣體與還原性氣體的混合氣體氣氛中進(jìn)行熱處理,在混合氣體氣氛中進(jìn)行熱處理后,在非活性氣體的單一氣體氣氛中進(jìn)行熱處理。
聲明:
“鉭酸鋰單晶基板的制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)