本發(fā)明屬于納米雜化
復合材料技術領域,公開了一種基于籠型倍半硅氧烷構建的抗反射涂層及其制備方法與應用。所述抗反射涂層是以十甲基丙烯酰氧丙基籠型倍半硅氧烷和八氨基苯基籠型倍半硅氧烷構建底層反應涂層后預固化;以含氟丙烯酸酯預聚物和八甲基丙烯酰氧丙基籠型倍半硅氧烷構建表層涂層,然后將兩層涂層在一定條件下共固化,利用兩層涂層的反應體積收縮率的不同引起應力,制備的抗反射涂層具有納米島狀結構,涂層的抗反射性能得到顯著提高,可廣泛應用于對抗反射性能有要求的光學器件。
聲明:
“基于籠型倍半硅氧烷構建的抗反射涂層及其制備方法與應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)