本發(fā)明提供了一種含氟聚酰亞胺紅外低發(fā)射率復(fù)合薄膜材料及其制備方法。該材料由在含氟聚酰亞胺材料中添加1%~10%的納米無機(jī)物形成的
復(fù)合材料,其中納米無機(jī)物以晶相粉粒分散在含氟聚酰亞胺中。實(shí)驗證實(shí),添加無機(jī)物后所形成的復(fù)合材料的熱穩(wěn)定性、耐環(huán)境性能以及紅外低發(fā)射性能均有所提高,尤其是其紅外發(fā)射率降低幅度較大,因此能夠滿足對穩(wěn)定性要求很高的紅外隱身材料的要求,在軍用及民用技術(shù)領(lǐng)域都有較好的應(yīng)用前景。
聲明:
“含氟聚酰亞胺紅外低發(fā)射率復(fù)合薄膜材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)