本發(fā)明公開了一種反應熔滴沉積裝置,包括真空室、第一氣源、第一抽真空系統(tǒng)和裝有Cu-R合金粉末的料斗,其中R為
稀土元素的一種或多種組合,所述第一氣源、第一抽真空系統(tǒng)分別與真空室連通,所述真空室內(nèi)設有由加熱體進行加熱的結晶器,所述料斗的底部設有落料裝置使料斗中的Cu-R合金粉末落入結晶器上。本發(fā)明提供的反應熔滴沉積裝置及用其制備彌散強化銅的方法,控制氣氛的成分,通過氣-液反應制備
復合材料,液相厚度小,擴散距離短;通過可控的原位反應制備彌散強化金屬基復合材料。逐層沉積,制備大塊復合材料錠。
聲明:
“反應熔滴沉積裝置及用其制備彌散強化銅的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)