本發(fā)明提供了一種電磁屏蔽低吸水高光表面聚酰胺
復(fù)合材料及其制備方法,由以下重量百分比含量組分組成:聚酰胺PA XY/XZ 50%?88%,
碳纖維10%?50%,抗氧劑0.05%?0.5%,脫模劑0.1%?2%。本發(fā)明還提出一種電磁屏蔽高光表面聚酰胺復(fù)合材料的制備方法。本發(fā)明制備的聚酰胺復(fù)合材料,具有高電磁屏蔽效率,低的吸水率和高光表面的特性。
聲明:
“電磁屏蔽高光低吸水聚酰胺及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)