本發(fā)明公開了一種g-C3N4摻雜的聚酰亞胺復合材料，是將一種二胺單體ODA(二氨基二苯醚)與另外一種二酐單體PMDA(均苯四甲酸酐)或BPDA(3, 3’, 4, 4’-聯(lián)苯二酐)聚合形成聚酰胺酸，在形成聚酰胺酸溶液過程前，加入石墨型氮化碳(g-C3N4)，體系酰亞胺化后，通過熱壓工藝制備成型。石墨型氮化碳(g-C3N4)通過物理作用摻雜到聚酰亞胺體系中。用上述方法獲得的含g-C3N4的聚酰亞胺膜材料，有較好的熱中子屏蔽性能，本發(fā)明還公開了上述g-C3N4摻雜聚酰亞胺材料的制備方法和中子輻射屏蔽應用。