本發(fā)明公開了一種等離子體處理設備及用于其上的高導電導磁
復合材料,該高導電導磁復合材料用于制造等離子體處理設備的反應腔外壁,包括高磁導率基材和設置在所述高磁導率基材表面的高電導率層;所述高磁導率基材的材質為坡莫合金。其內芯層磁導率高,外表層電導率高,可以同時滿足刻蝕機對磁場和電場屏蔽的需求,通過蒸鍍,氣相沉積,熱噴涂,冷噴涂等方式加工簡單,可以實現批量生產。
聲明:
“等離子體處理設備及用于其上的高導電導磁復合材料” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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