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圖形化巨磁阻復合材料薄膜制備方法

878   編輯:管理員   來源:中冶有色技術網  
2023-03-18 16:24:02
本發(fā)明提供了一種圖形化巨磁阻復合材料薄膜制備方法。首先通過光刻方法在多孔氧化鋁濾膜上形成所需圖形,然后利用真空過濾碳納米管懸浮液的方法在模板上形成圖形化碳納米管陣列,之后直接將液態(tài)聚合物置于濾膜之上,固化后去除濾膜,碳納米管即被轉移至聚合物基體表面,形成圖形化碳納米管/聚合物復合材料薄膜。在這個過程中通過調節(jié)碳納米管懸浮液濃度和過濾溶液體積,獲得不同密度的碳納米管薄膜,進而實現(xiàn)薄膜巨磁阻效應的可調節(jié),在柔性磁傳感器領域具有廣泛應用前景。
聲明:
“圖形化巨磁阻復合材料薄膜制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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