本發(fā)明公開了一種磁性二氧化鈦/氧化石墨烯分子印跡光催化復(fù)合材料，該復(fù)合材料按照以下質(zhì)量份制成：3~5份磁性二氧化鈦，2~6份雙二辛氧基焦磷酸酯基乙撐鈦酸酯胺鹽螯合物，90~130份氧化石墨烯片層分散液，0.1~0.6份模板分子，0.2~0.4份功能單體，2~4份交聯(lián)劑，0.9~1.5份引發(fā)劑；本發(fā)明還公開了一種磁性二氧化鈦/氧化石墨烯分子印跡光催化復(fù)合材料的制備方法，通過本發(fā)明不僅改善了二氧化鈦光催化劑易團聚，吸附降解效率低的問題，而且具有良好的選擇吸附和多次重復(fù)回收使用的性質(zhì)，降低了光催化降解反應(yīng)的成本。