本發(fā)明總體上涉及一種特別是用于增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)設(shè)備的光學(xué)層狀復(fù)合材料。具體地，本發(fā)明涉及一種光學(xué)層狀復(fù)合材料及其制備工藝、包括所述光學(xué)層狀復(fù)合材料的設(shè)備及其制備工藝、以及光學(xué)層狀復(fù)合材料在增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)設(shè)備中的用途。本發(fā)明涉及一種光學(xué)層狀復(fù)合材料，其包括：i)基底，所述基底具有正面、背面、正面與背面之間的厚度d_s和折射率n_s，以及ii)涂覆在所述正面上的涂層，所述涂層包括折射率為1.7或更高的A組涂覆層和折射率小于1.7的B組涂覆層；其中所述A組的各層的厚度之和為所述涂層的總厚度d_e的至多55％。