本發(fā)明公開了一種超低摩擦的納米γ-Fe2O3/SiO2磁性復(fù)合材料及其制備方法,該種磁性復(fù)合材料的成分原子質(zhì)量百分比為:Fe:10.0～30.0%;Si:10～40.0%;N:1～3%;余量為O。其制備方法為:首先用射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法在鋼基體上制備無(wú)定形Si膜,得到薄膜試樣;再將所得的薄膜試樣置于惰性保護(hù)氣體中,以400-800℃處理1～3小時(shí),得到納米γ-Fe2O3/SiO2磁復(fù)合材料。然后將該磁復(fù)合材料在氮?dú)鈿夥毡Ｗo(hù)下冷卻至室溫。該制備方法不但工藝簡(jiǎn)單、易于實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)。這種磁性復(fù)合材料中只有γ-Fe2O3,不會(huì)發(fā)生α-Fe2O3相轉(zhuǎn)變,保持了納米γ-Fe2O3的純度。與傳統(tǒng)的γ-Fe2O3材料相比,γ-Fe2O3材料的熱穩(wěn)定性顯著提高。相變溫度的提高,對(duì)拓寬γ-Fe2O3作為磁記錄材料的應(yīng)用范圍具有極其重要的意義。