一種微電子封裝用可伐/銀合金
復(fù)合材料及其制備方法,該復(fù)合材料中銀合金釬料層中Cu的含量為30~35wt%,Ti的含量為0.1~5.0wt%,Ni的含量為0.1~1.0wt%,余量為Ag;可伐合金層為4J29或4J34。制備方法包括:采用真空加壓燒結(jié)方法制備釬料錠坯,通過熱壓擴(kuò)散方式獲得復(fù)合錠坯,經(jīng)冷鍛成形、中間退火、精密軋制及成品退火,獲得厚度為0.15~1.5mm的層狀復(fù)合材料,其中可伐合金層厚度為0.1~1mm,銀合金釬料層厚度為0.01~0.5mm。本發(fā)明的可伐/銀合金復(fù)合材料與陶瓷熱膨脹系數(shù)匹配性好,可實(shí)現(xiàn)與陶瓷件良好封裝。釬焊溫度適中,封裝工藝簡單高效,器件封接后不易發(fā)生開裂,成品率高。
聲明:
“微電子封裝用可伐/銀合金復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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