一種薄層MXene/六方晶相二硫化鉬
復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用,它涉及一種MXene復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明的目的是要解決現(xiàn)有MoS
2或MoS
2的復(fù)合材料作為敏感材料制備氣敏元件用于檢測NO
2的靈敏度較低,檢測極限高,恢復(fù)性差和需要借助其他輔助手段進(jìn)行測試,成本高,檢測時間長的問題。一種薄層MXene/六方晶相二硫化鉬復(fù)合材料由二維過渡金屬碳化物、含鉬化合物、含硫化合物、弱酸和表面活性劑為原料制備而成。方法:一、制備薄層MXene;二、復(fù)合;三、后處理。薄層MXene/六方晶相二硫化鉬復(fù)合材料作為敏感材料制備氣敏元件,所述的氣敏元件在室溫下用于檢測空氣中低濃度的NO
2。
聲明:
“薄層MXene/六方晶相二硫化鉬復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)