1000℃臥式馬弗爐 183     

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1000℃臥式馬弗爐爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，且均勻地分布六面墻體，有效的保證了溫場(chǎng)的均勻性。測(cè)溫采用性能穩(wěn)定、長(zhǎng)壽命的“S”型熱電偶，以提高控溫的精準(zhǔn)性。

小型高溫高壓管式爐 340     

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小型高溫高壓管式爐OTF-1200X-HP-12爐管采用鎳基合金鋼制作而成，最高溫度可達(dá)1100℃，同時(shí)可向爐管中通入氧氣、氮?dú)?、水蒸氣及惰性氣體等。

晶體生長(zhǎng)爐 287     

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SKJ-50晶體生長(zhǎng)爐是用提拉法生長(zhǎng)高質(zhì)量氧化物單晶及金屬單晶，如藍(lán)寶石、GGG、YAG、SrLaAlO4、LaAlO3、Si、Ge等，最大可長(zhǎng)出晶體尺寸達(dá)3" 。

微波高溫馬弗爐 399     

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MF型微波高溫馬弗爐是實(shí)驗(yàn)室專用的標(biāo)準(zhǔn)微波高溫設(shè)備，適用于空氣氣氛條件下微波合成、微波灰化、微波膨化、微波熱處理、微波焙燒、微波煅燒、微波燒結(jié)等工藝實(shí)驗(yàn)研究。

金屬晶體生長(zhǎng)爐 498     

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SKJ-M50-16金屬晶體生長(zhǎng)爐是用坩堝下降法生長(zhǎng)金屬晶體的設(shè)備，可在真空、大氣、惰性氣體或其他保護(hù)氣氛下、在可控的局部壓力狀態(tài)下運(yùn)行。根據(jù)金屬的屬性，本機(jī)可采用中頻感應(yīng)加熱電源，以及石墨電阻加熱兩種加熱方式；采用歐陸微處理器與熱電偶閉環(huán)控制爐溫，使結(jié)晶體按照一定的直徑進(jìn)行控制。

微型管式爐 301     

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GSL-1000X-S是一款微型管式爐（管徑：20mm），最高溫度可達(dá)到1000℃，標(biāo)配內(nèi)包含不銹鋼密封法蘭與石英管，客戶接通電源即可立即使用。30段可編程精密溫度控制器,可根據(jù)不同的客戶需求來(lái)設(shè)定升降溫程序。爐體可垂直或水平放置以滿足不同的應(yīng)用，如樣品熱處理、VSL、CVD 以及氣體分析等實(shí)驗(yàn)工藝中。

1100℃小型高真空爐 291     

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1100℃小型高真空爐VBF-1200X-H8是專門針對(duì)在1100℃真空或各種氣氛條件下，對(duì)6″以下的樣品進(jìn)行熱處理而設(shè)計(jì)的真空管式爐。

熔煉鑄造爐 290     

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VIMC-150熔煉鑄造爐適用于鉑、鈀、鈦、黃金、K金、銀和銅等金屬鑄造，廣泛應(yīng)用于學(xué)校、實(shí)驗(yàn)室、珠寶首飾、牙科鑄造和工藝品鑄造等相關(guān)行業(yè)領(lǐng)域，采用智能西門子控制系統(tǒng) ，可連續(xù)24小時(shí)工作；在真空和惰性氣體保護(hù)下，全自動(dòng)真空倒模成形，成品無(wú)氧化、密度高和無(wú)沙孔；全自動(dòng)鑄造過(guò)程，融化時(shí)間5-6分鐘；鑄造方法是反轉(zhuǎn)式真空加壓鑄造方式。

1100℃帶校準(zhǔn)系統(tǒng)管式爐 292     

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GSL-1100X-50-LVT 是一款已通過(guò)CE認(rèn)證的1100℃分體式真空管式爐. 標(biāo)配內(nèi)包含KF25 轉(zhuǎn)接口、 進(jìn)口數(shù)顯真空計(jì) 、雙旋片機(jī)械泵 、 油霧過(guò)濾器,另外配有OMEGA 測(cè)溫儀及K 型熱電偶 一套, 可將K型熱偶從左端法蘭安裝于爐管內(nèi)部從OMEGA測(cè)溫儀上讀取樣品實(shí)時(shí)溫度. 30段可編程溫度控制儀，可按不同客戶的實(shí)驗(yàn)要求設(shè)置所需要的升溫速率，控溫精度±1℃.爐體在加熱過(guò)程中真空不能高于1E-2 Torr使用，否則容易造成爐管的損壞。

1700℃立式高溫管式爐 382     

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1700℃立式高溫管式爐GSL-1700X-80VT采用硅鉬棒進(jìn)行加熱，最高溫度可以達(dá)到1700℃，專門針對(duì)于材料在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下的燒結(jié)。溫控系統(tǒng)采用PID控制器，可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。

1200℃三溫區(qū)可傾斜旋轉(zhuǎn)爐 300     

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1200℃三溫區(qū)可傾斜旋轉(zhuǎn)爐OTF-1200X-5L-R-III主要針對(duì)于粉料的混燒，爐管可360°轉(zhuǎn)動(dòng)，且內(nèi)部設(shè)有4片揚(yáng)料板，可增加粉料燒結(jié)的均勻性，因而適合于實(shí)驗(yàn)室中較多粉料的燒結(jié)，特別是鋰電材料的燒結(jié)，如LiFePO3、LiMnNiO3等。

真空熱壓爐 425     

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OTF-1200X-VHP4真空熱壓爐配有?4"石英管、20T電動(dòng)壓力機(jī)，可以加熱到1100℃，帶水冷的法蘭可使真空度達(dá)到10-5torr（用分子泵），在5T壓力下可鍵合多層基片，是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想設(shè)備。

1200℃立式真空小管式爐 299     

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1200℃立式真空小管式爐OTF-1200X-S-VT是一款小型開(kāi)啟式立式管式爐，適合于對(duì)樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下吊燒和淬火。采用PID控制器進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)，可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。

混氣系統(tǒng)4路質(zhì)子 280     

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混氣系統(tǒng)4路質(zhì)子GSL-4Z是用于控制一種到四種的氣體流經(jīng)真空密封的管式爐，這種氣體控制系統(tǒng)安裝在移動(dòng)架內(nèi)，管式爐可以放在移動(dòng)架上面，氣體控制系統(tǒng)的前面板上有控制并顯示氣體流量的調(diào)節(jié)閥，可以用于CVD系統(tǒng)及退火爐，用來(lái)研究氣體環(huán)境對(duì)材料的影響，在半導(dǎo)體和集成電路工業(yè)、特種材料學(xué)科、化學(xué)工業(yè)、石油工業(yè)、醫(yī)藥、環(huán)保和真空等多種領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中有著重要的作用，廣泛應(yīng)用于電子工藝設(shè)備，如擴(kuò)散、氧化、外延、CVD、等離子濺射以及鍍膜設(shè)備、光纖熔煉、混氣配氣系統(tǒng)及其它分析儀器。

高真空鉭加熱爐 297     

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高真空鉭加熱爐是高溫電阻加熱爐。以鉭為加熱元件，適用于高真空狀態(tài)下對(duì)金屬、非金屬及其化合物進(jìn)行燒結(jié)、熔化，也可以對(duì)小型樣品進(jìn)行真空釬焊的操作，如硬質(zhì)合金、鎳基合金、粉末冶金、鎳鈷合金、合金鋼、不銹鋼、稀土釹鐵錋等。高真空鉭加熱爐極限工作溫度為2000℃，工作最高溫度1800℃，工作過(guò)程中的加熱速度可以通過(guò)溫控表進(jìn)行設(shè)置，但升溫速度過(guò)快會(huì)使鉭爐膽的壽命會(huì)有所降低，為了延長(zhǎng)爐子的使用壽命，推薦每分鐘的升溫速度為20℃，在500℃以下可以適當(dāng)加快升溫速度。

1200℃開(kāi)啟式雙溫區(qū)管式爐 279     

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1200℃開(kāi)啟式雙溫區(qū)管式爐OTF-1200X-II最高溫度可達(dá)到1200℃，并可通過(guò)調(diào)節(jié)兩個(gè)獨(dú)立的控溫程序，使?fàn)t管內(nèi)溫度場(chǎng)形成一梯度。本機(jī)可用CVD方法來(lái)生長(zhǎng)納米材料和制作各種薄膜。

1200℃單管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐 285     

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1200℃單管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL底部安裝一對(duì)滑軌，可手動(dòng)進(jìn)行爐體移動(dòng)，最高工作溫度達(dá)1200℃，加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到10℃/s。為獲得最快加熱，可預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度，然后移動(dòng)爐子到樣品位置；為獲得最快冷卻，可在樣品加熱后移動(dòng)爐子至另一端，本機(jī)是低成本進(jìn)行快速熱處理的理想設(shè)備。

1500℃三溫區(qū)開(kāi)啟式管式爐 218     

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1500℃三溫區(qū)開(kāi)啟式管式爐OTF-1500X-III是高溫管式爐，最高溫度可達(dá)1500℃，三個(gè)溫區(qū)分別用三個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，每個(gè)溫區(qū)都可以設(shè)置30段升降溫程序，并設(shè)有過(guò)熱和斷偶保護(hù)功能，控溫精度高達(dá)±1℃。本機(jī)特別適合于在氣氛保護(hù)或真空環(huán)境下對(duì)樣品進(jìn)行退火和燒結(jié)。

微波氣氛燒結(jié)爐 388     

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QS型微波氣氛燒結(jié)爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波高溫實(shí)驗(yàn)工作站，適用于各種氣氛、真空條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結(jié)等工藝研究。

真空感應(yīng)熔煉爐 498     

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真空感應(yīng)熔煉爐SP-15VIM適用于大專院校、研究所實(shí)驗(yàn)室小量金屬樣品的迅速融化，是研制新型金屬材料的理想工具。

微波高溫管式爐 408     

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LZG型微波高溫管式爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波立式氣氛管式爐，適用于各種氣氛、真空條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結(jié)等工藝研究，尤其適用于各種氣固相、氣相反應(yīng)、合成反應(yīng)、分解反應(yīng)等。

小型鈦金屬反應(yīng)釜 291     

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RC-Ti-100小型鈦金屬反應(yīng)釜是由純鈦金屬制作而成，最大可耐4Mpa的壓力，是制備先進(jìn)材料，尤其是水熱法合成生物材料的理想工具。

800℃高壓爐 414     

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800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 PSI高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。

微波管式爐 303     

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ZG型微波管式爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波管式實(shí)驗(yàn)工作站，適用于各種氣氛條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結(jié)等工藝研究。

1200℃開(kāi)啟式立式爐 399     

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1200℃開(kāi)啟式立式爐OTF-1200X-80-VT是可垂直開(kāi)啟式管式氣氛爐，能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護(hù)條件下對(duì)樣品快速升降溫。本機(jī)可垂直安裝在可移動(dòng)的支架上，方便爐管的取放。

1700℃8升氫氣爐 407     

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KSL-1700X-H2 是一款通過(guò) CE 認(rèn)證的高溫箱式爐，此款儀器專門針對(duì)于材 料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進(jìn)行燒結(jié)或是退火，其最高溫度可高達(dá) 1700℃。 KSL-1700X-H2采用氧化鋁纖維作為爐膛材料（爐膛尺寸為200 x 200 x 200 mm）， 以鉬絲作為加熱元件，爐體頂部密封板中嵌有冷卻水管，以保證儀器工作時(shí)的密 封性能。對(duì)需在惰性氣體或還原性氣體環(huán)境下燒結(jié)的材料（如熒光材料，鈦合金 等），KSL-1700X-H2 是一個(gè)非常好的選擇。

雙管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐 225     

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雙管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統(tǒng)，是專為在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜而設(shè)計(jì)的，特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。本機(jī)可通過(guò)滑動(dòng)爐體，實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。

軌道箱式爐 306     

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軌道箱式爐KSL-1400X以硅碳棒為加熱元件，可控硅、708P智能溫度調(diào)節(jié)儀和S型單鉑銠熱電偶配套使用，由此進(jìn)行對(duì)爐膛內(nèi)部溫度的測(cè)溫調(diào)節(jié)、自動(dòng)控制。爐膛最高溫度為1300℃。采用兩面軌道開(kāi)門，方便使用。

1800℃小型箱式爐(1.7L) 285     

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1800℃小型箱式爐（1.7L）KSL-1800X-S是一款微型箱式爐，采用Kanthal Super-1900型硅鉬棒和氧化鋯內(nèi)襯爐膛，可在1750℃下連續(xù)使用，最高溫度可達(dá)1800℃。本機(jī)具有體積小巧、節(jié)約能源的優(yōu)點(diǎn)，下開(kāi)式爐門更易于樣品裝載，并加裝通氣口，可在氧氣或惰性氣氛下操作使用。

微波真空燒結(jié)爐 295     

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ZK型微波真空燒結(jié)爐是標(biāo)準(zhǔn)化多功能微波高溫真空實(shí)驗(yàn)工作站，適用于各種氣氛條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結(jié)等工藝研究。尤能實(shí)現(xiàn)微波真空合成或燒結(jié)，并可對(duì)易受氣氛影響的實(shí)驗(yàn)提供更為精細(xì)的氣氛控制。