雙爐滑軌 2635     

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該PECVD(等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng))系統(tǒng)，有多路質(zhì)量流量計系統(tǒng)(進口流量計)，真空機組(進口真空泵)，PE射頻電源(進口射頻源)，溫控系統(tǒng)等裝置構(gòu)成。使用PE源將氣源等離子化，有利于降低工藝溫度，同時擴大工藝的使用條件，滿足更多的工藝實驗要求，如石墨烯、碳納米管等，控制操作系統(tǒng)集成于觸摸屏操作面板上，便于操作與觀察。

組合式多通道管式爐 2069     

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此款設(shè)備由9組管式爐組合而成，且相互獨立控制，可同時進行平行實驗，整機液晶屏集中管理，操作簡便,無紙記錄。設(shè)備的在最大優(yōu)勢：功能強大體積小，很好的解決了實驗室空間緊張的問題，廣泛適用于各大高校研究院。

連續(xù)進出料回轉(zhuǎn)CVD生長設(shè)備 2707     

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該設(shè)備爐管可360°旋轉(zhuǎn)，有助于粉料的燒結(jié)更均勻，可大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0-35°之間。設(shè)備組成：加熱系統(tǒng)，進料系統(tǒng)，出料系統(tǒng)，氣體控制系統(tǒng)，低真空系統(tǒng)，爐管轉(zhuǎn)動系統(tǒng)，電控操作系統(tǒng)。

不銹鋼真空手套箱 1915     

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VGB系列手套箱由3mm厚度的304優(yōu)質(zhì)鋼板或鏡面不銹鋼氬弧焊制而成，雙層鋼化玻璃及加強筋制成，可在高真空或一定正壓環(huán)境下使用，內(nèi)置220V，16A多孔插頭，方便使用者在箱體內(nèi)配用帶電儀器，操作室后有KF25接頭，可接氧分儀和水分儀工作。

1700℃ 36L 高溫箱式爐 1691     

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保溫材料采用真空吸附成型的氧化鋁纖維無機材料，環(huán)保節(jié)能；爐體采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐子燒到最高溫度時，殼體表面溫度低于60℃。采用多種保溫材料組合制成，使?fàn)t子體積小，能量消耗少(耗電量是同類產(chǎn)品耗電量的四分之一)。

真空熱壓爐 2057     

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開啟式立式加熱體，爐管法蘭可繞軸旋轉(zhuǎn)移出爐腔。標(biāo)配Φ100mm石英管真空密封，40T電動壓力機。采用石墨頂桿和石墨模具，在加壓的同時使粉末加熱到正常燒結(jié)溫度或更低一些，經(jīng)過較短時間燒結(jié)成致密而均勻的制品。

高溫高壓真空管式爐 2635     

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BTF-1200C-HP高溫高壓管式爐，其爐管采用鎳基合金鋼管，最高溫度可耐1100℃，800℃工作條件下，最大壓力可達4mpa，密封形式采用CF法蘭密封，密封圈為金屬無氧銅密封圈，最大真空度可以達到10-4 Pa，而且此款設(shè)備的爐管抗氧化性較強，可以在高溫狀態(tài)下通入氧氣和水蒸氣，設(shè)備上裝有壓力傳感器和電磁閥，當(dāng)壓力傳感器檢測到內(nèi)部壓力大于所設(shè)定的壓力時通過信號傳送至高壓電磁閥，電磁閥打開釋放出多余壓力，以保證內(nèi)部壓力與所設(shè)定相同。

氫氣爐 2823     

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ZMF-1700C-H2是一款自主研發(fā)的高溫氣氛箱式爐，此款儀器專門針對于材料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進行燒結(jié)或是退火，其最高溫度可高達1700℃。ZMF-1700C-H2采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，以鉬 絲作為加熱元件，爐門、爐頂采用高溫硅橡膠密封，爐門配備水冷系統(tǒng)。爐體上有進氣口、出氣口、抽真空口，以保證儀器工作時的密封性能。對于需在惰性氣體或還原性氣體環(huán)境下燒結(jié)的材料(如熒光材料，鈦合金等)，ZMF-1700C-H2是一個非常好的選擇。

前開式真空井式坩堝爐 2809     

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集控制系統(tǒng)與爐膛為一體，爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，程控鑲嵌進口電阻絲。大口徑的石英爐腔和真空密封法蘭系統(tǒng)，可以在流動氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品。

真空箱式爐 2867     

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保溫材料采用真空吸附成型的氧化鋁纖維無機材料，環(huán)保節(jié)能；爐體采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐子燒到最高溫度時，殼體表面溫度低于60℃。爐體采用超輕質(zhì)高鋁纖維材料，具有熱熔小，溫度升降控制靈活、節(jié)能等特點。

迷你型開啟式真空管式爐 2110     

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爐體小巧，標(biāo)配不銹鋼帶閥真空法蘭和石英管，可在真空或氣氛下工作。上下12組加熱器密布于圓形爐膛內(nèi)，溫場均勻，恒溫區(qū)超長，配置法蘭支撐架，減小爐體承重。

立式管式爐 2113     

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此款立式爐爐管法蘭可上下多檔移動，法蘭上的特殊設(shè)計方便掛燒樣件，實現(xiàn)真空或氣氛下的淬火實驗，廣泛用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門。

高溫石墨爐GRF-2000C 2335     

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廣泛應(yīng)用于功能陶瓷、光學(xué)材料、碳復(fù)合材料，硬質(zhì)合金，粉末冶金等在高溫下進行燒結(jié)處理，也可在充氣保護情況下成型燒結(jié)。

1700C高溫剛玉管式爐 2619     

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爐體采用雙層風(fēng)冷機構(gòu)，爐子燒到最高溫度時，殼體表面溫度低于60度。保溫材料采用真空吸附成型的氧化鋁纖維無機材料，不含污物，潔凈，美觀。法蘭兩端加支托，減輕爐管負重，保證爐管使用壽命。

快速升溫爐 2544     

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這是一款精巧型快速熱處理管式爐,石英管管徑為90mm,石英樣品舟可直接劃出爐腔，樣品舟尺寸可根據(jù)實驗需求定制，進氣配有1路浮子，RS485 接口和控制軟件可以通過計算機控制爐子運行并顯示溫度曲線。爐膽采用高密度純氧化鋁聚輕纖維材料真空吸附成型，表面涂覆高反射率的超高溫保護涂層，不僅能夠保持其能量的最低損耗，還能增強高溫穩(wěn)定性，可有效減少熱能損耗 ，使溫場均勻。氣動彈簧支撐結(jié)構(gòu)讓操作者可各角度安全開啟。

小型組合式多通道管式箱式爐 2360     

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此款設(shè)備由4臺迷你型管式氣氛爐、4臺迷你馬弗爐組合而成，且相互獨立控制，可同時進行平行試驗，設(shè)備體積小，廣泛適用于各大高校研究所使用。

真空井式坩堝爐 2601     

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BTF-1200C-VF真空井式坩堝爐,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。其爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，程控鑲嵌進口電阻絲。超大口徑的石英爐腔和真空密封法蘭系統(tǒng)，可以在流動氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品，能很好的替代真空箱式爐。

環(huán)隙式離心萃取機 1956     

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在濕法冶金行業(yè)生產(chǎn)中，提取銅、鈾、鎳鈷、鉬、稀土金屬及其他金屬元素時，采用離心萃取機進行非平衡萃取，利用離心萃取機內(nèi)兩相接觸時間很短(幾秒) ，使傳質(zhì)速度很快的一種元素被萃取而傳質(zhì)速度緩慢的另一種元素基本上不被萃取，從而實現(xiàn)了兩種元素的分離，而采用混合澄清槽時兩者分離難度很大。

上懸式離心萃取機 1830     

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在濕法冶金領(lǐng)域，萃取劑多采用P204、N263等有機溶劑進行萃取，兩相液體在高混合強度下存在乳化的現(xiàn)象，針對該問題設(shè)計攪拌輪型離心萃取機，可降低兩相的混合強度，避免乳化現(xiàn)象的產(chǎn)生；針對乳化的問題，公司還設(shè)計專業(yè)的破乳機構(gòu)，解決易乳化物系的分離問題。

全塑型離心萃取機 3854     

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濕法冶金領(lǐng)域，多遇到鹽酸等強腐蝕物系，對設(shè)備材質(zhì)的要求比較嚴格，往往需要特種金屬或者襯塑處理。針對物系的強腐蝕問題，公司開發(fā)出全塑型離心萃取機，其轉(zhuǎn)?及殼體等與物料接觸部分采?塑料整體成型（?般材質(zhì)為PVDF、PTFE）。在解決腐蝕問題的基礎(chǔ)上，還由于塑料材質(zhì)輕，運?功率得到進?步降低；但其轉(zhuǎn)??徑?和轉(zhuǎn)?轉(zhuǎn)速相應(yīng)降低，分離能?下降；

密閉加壓過濾洗滌一體機 2526     

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在濕法冶金過程中，金屬材料需經(jīng)過多次洗滌過濾，傳統(tǒng)的離心機，對濾餅進行淋洗，洗滌效果有限且洗滌劑耗用量大；公司對此推出密閉加壓過濾洗滌一體機，對濾餅進行打漿洗滌，洗滌充分，洗滌劑耗用量少，被廣泛用于鋰電池三元材料、銅、金、銀、鎳、鈷等金屬的過濾洗滌。

晶體材料：摻鐵鈦酸鍶（Fe:SiTiO3） 3782     

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簡介：摻鐵鈦酸鍶（Fe:SiTiO3）與鈦酸鍶單晶有著相似的結(jié)構(gòu)，目前我們可以提供0.005%、0.05%等摻鐵濃度的單晶基片。

晶體材料：PMN-PT 3125     

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鈮鎂鈦酸鉛[（PbMg0.33Nb0.67O3）1-x:（PbTiO3）x ]具有優(yōu)異的壓電性能、非線性光學(xué)性能和熱釋電性能，是成為新一代高性能壓電換能器、非線性光學(xué)器件和光電探測器件（例如：紅外探測器）的核心材料。

晶體材料：釔鋁石榴石（YAG） 3513     

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釔鋁石榴石（YAG即Y3Al5O12）是一種新型基片和紫外及紅外光學(xué)窗口材料，適用于高溫和高能領(lǐng)域。YAG在2～3μm范圍內(nèi)沒有跟蹤吸收，然后玻璃由于強的氫氧鍵在該范圍內(nèi)被充分吸收。YAG晶體的機械化學(xué)性能穩(wěn)定，類似于藍寶石，但它又沒有雙折射，且具有很高的光學(xué)均勻性。

晶體材料：鋁酸鑭（LaAlO3） 3463     

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鋁酸鑭（LaAlO3）單晶是當(dāng)前非常重要的大尺寸高溫超導(dǎo)薄膜基片單晶材料。它對多種鈣鈦礦結(jié)構(gòu)材料晶格匹配好，是外延生長高溫超導(dǎo)薄膜和巨磁阻薄膜極好的襯底材料，介電常數(shù)較低，微波損耗小，適用于制作高溫超導(dǎo)微波電子器件（例如：遠程通訊中的高溫超導(dǎo)微波濾波器等）。

晶體材料：金屬銅單晶（Cu） 3154     

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晶體材料：金屬銅單晶（Cu） 簡介：金屬銅單晶（Cu）被廣泛用于基質(zhì)金屬，合金薄膜材料和生物材料。

晶體材料：氧化鎂（MgO） 3572     

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氧化鎂（MgO）被廣泛應(yīng)用在制作鐵電薄膜、磁學(xué)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、光電薄膜等。由于它在微波波段的介電常數(shù)和損耗都很小，并且能得到大面積的基片，所以也是重要的高溫超導(dǎo)薄膜單晶基片之一。可用于制作移動通訊設(shè)備所需的高溫超導(dǎo)微波濾波器等器件。

小型真空管式爐LFT1200C 230D50（管式爐系列） 1797     

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LFT系列迷你管式爐是用于各種材料熱處理的實驗設(shè)備。主要行業(yè)有稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造等行業(yè)進行真空燒結(jié)、氣氛保護燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實驗、物質(zhì)成分測量等場合。

實驗設(shè)備：高溫高壓管式爐 LFT1400C-II（管式爐系列） 1886     

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高溫高壓管式爐如圖所示，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側(cè)，溫場均勻可靠。鎳基合金材料制成的金屬爐管配備CF法蘭密封形式及金屬紫銅密封圈，提高設(shè)備的使用溫度，同時能實現(xiàn)在一定的高壓條件下實驗。工件式樣在管中加熱，加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。

立式管式爐（BTF-1100C-VT） 1611     

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此款立式爐爐管法蘭可上下多檔移動，法蘭上的特殊設(shè)計方便掛燒樣件，實現(xiàn)真空或氣氛下的淬火實驗，廣泛用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門。