高真空熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是一種利用電阻加熱或電子束加熱使材料蒸發(fā),并在高真空環(huán)境下沉積到基片表面形成薄膜的 物理氣相沉積(PVD) 設(shè)備。該系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于光學薄膜、電子器件、裝飾鍍膜等領(lǐng)域。
設(shè)備主要技術(shù)參數(shù):
1、 極限真空≤6*10-5pa
2、 恢復設(shè)備工作真空≤6*10-4pa,小于40min(新設(shè)備充干燥氮氣)
3、 蒸發(fā)舟配置手動磁耦合擋板
4、 設(shè)備配置樣品托架一套,掩膜板一套
5、 18個束源爐最高溫度為600℃,控溫精度為±1℃
6、 設(shè)備總體漏率:關(guān)機停泵12小時后,真空度≤10pa
7、 蒸發(fā)源與襯底間距180mm±60mm
8、 手套箱的水氧含量小于1ppm
設(shè)備主要配置:
1、 真空腔體采用真空專用304#不銹鋼制造,內(nèi)徑480mm,高495mm(可根據(jù)實際需要進行定制)
2、 鉭蒸發(fā)舟組件6套,束源爐18套
3、 蒸發(fā)舟加熱電源2臺,束源爐加熱電源6臺,并配置手動轉(zhuǎn)換機構(gòu)
4、 配置CF150超高真空閘板閥二臺,配置CF35超高真空角閥二支,配置放氣閥二支,配置CF16充氣閥二支,電阻規(guī)二支,電離規(guī)二支
5、 可升降可旋轉(zhuǎn)樣品沉積轉(zhuǎn)臺,基片架機構(gòu)一套,旋轉(zhuǎn)速度2~30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)
6、 過渡室配置CF200閘板閥二臺
7、 烘烤照明系統(tǒng)一套、襯底總擋板一套、CF100玻璃金屬觀察窗及擋板二套及CF63玻璃金屬觀察窗及擋板一套、金屬陶瓷焊接電極若干、控制柜二套
8、 配置600L/S分子泵二臺、配置2XZ-8機械泵二臺、前級管路三套,配置¢32不銹鋼金屬波紋管管路