設(shè)備技術(shù)指標(biāo)：
1、金屬真空室腔體:1套
1) 外形：304優(yōu)質(zhì)不銹鋼D形前后開(kāi)門(后門采用鉸鏈?zhǔn)椒介T，方便清洗真空腔體，真空室內(nèi)部調(diào)試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門)真空室腔體1套(真空室內(nèi)部尺寸D400*480mm)，前后門配DN100視窗2套;
2) 底部：金屬源接口4套，國(guó)產(chǎn)600L/S風(fēng)冷分子泵接口1套(真空室內(nèi)部口采用遮板防塵)，CF25照明接口2套以及進(jìn)口水冷膜厚探頭接口2套;
3) 頂部：樣品臺(tái)接口1套，電動(dòng)擋板接口1套，KF16氣動(dòng)角閥接口1套;
4) 左側(cè)： CF35氣動(dòng)預(yù)抽角閥接口1套，KF16氣動(dòng)放氣閥接口1套。
2、金屬蒸發(fā)源系統(tǒng)：1套
1) 金屬蒸發(fā)源4套(金屬室)：水冷
銅電極4組，兼容蒸發(fā)舟(鎢、鉬和鉭舟)和螺旋絲，免工具拆卸，配氣動(dòng)擋板，1KW可控硅調(diào)壓電源4臺(tái)(一帶一)(數(shù)字顯示)，電流調(diào)整精度1A，功率滿足常見(jiàn)的金屬以及金屬氧化物的蒸鍍;
2) 隔板：蒸發(fā)源相互獨(dú)立，隔板分隔，避免交叉污。
3、樣品臺(tái)系統(tǒng)：1套
1) 基片旋轉(zhuǎn)：轉(zhuǎn)速0～30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào);
2) 基片升降：電動(dòng)升降，襯底與蒸發(fā)源間距200-300mm通過(guò)觸摸屏連續(xù)可調(diào);
3) 基片掛架：120×120 mm基片臺(tái)，承載最多25片15×15mm基片(或可根據(jù)客戶需求定做)，附掩膜板;
4) 基片水冷：φ180mm水冷臺(tái)，接入冷水機(jī)冷卻;
5) 基片擋板：電動(dòng)擋板。
1) 國(guó)產(chǎn)600L/S風(fēng)冷分子泵1臺(tái);
2) 8L/S直聯(lián)旋片泵1臺(tái);
3) CF150高真空氣動(dòng)插板閥1臺(tái);
4) CF35高真空氣動(dòng)擋板閥1臺(tái);
5) KF16高真空氣動(dòng)擋板閥2臺(tái);
6) KF40高真空氣動(dòng)擋板閥1臺(tái);
7) KF40真空電磁充氣閥1臺(tái);
8) KF40泵閥連接軟管2套，KF40三通1套;
9) ZDF-5227數(shù)顯真空計(jì)1臺(tái)(測(cè)量范圍：1×105～1×10-5Pa)。
5、膜厚檢測(cè)系統(tǒng)：1套
1) 膜厚儀：美國(guó)infocon，SQM310兩通道石英晶振膜厚監(jiān)控儀1臺(tái)，
2) 膜厚探頭：美國(guó)進(jìn)口水冷膜厚探頭2套。
6、設(shè)備機(jī)架：1套
1) 40碳鋼方管焊接機(jī)架1套，表面噴塑;
2) 3英寸萬(wàn)向輪4件，移動(dòng)調(diào)整;
3) M16地腳4件，鎖緊定位。
7、其他電控系統(tǒng)：1套(電氣控制采用1.8米電控柜內(nèi)置或集約機(jī)架式結(jié)構(gòu))
1) 金屬源電源：4臺(tái)(1帶1);
2) 烘烤照明電源：1臺(tái);
3) 總控制電源(配7寸觸摸屏，PLC控制器，控制樣品臺(tái)，蒸發(fā)源，泵閥開(kāi)關(guān)、相序檢測(cè)，以及電纜開(kāi)關(guān)接頭等)：1臺(tái)。
8、其他技術(shù)參數(shù)：
1) 系統(tǒng)狀態(tài)檢測(cè)，誤操作保護(hù)，聯(lián)動(dòng)互鎖以及一鍵真空啟停等功能;
2) 供電：～220V兩相供電系統(tǒng)(峰值5KW);
3) 供水：小型冷水機(jī)，冷卻水溫度5℃～35℃，工作環(huán)境溫度：10℃～40℃;
4) 供氣：小型無(wú)油靜音氣泵，提供0.2-0.3MPa氣壓，驅(qū)動(dòng)氣動(dòng)閥門;
5) 極限真空：優(yōu)于6×10-5Pa，大氣至6×10-4Pa時(shí)間優(yōu)于35分鐘(充干燥氮?dú)?，關(guān)機(jī)12小時(shí)真空度≤10Pa。
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