本發(fā)明涉及化學(xué)褪鎳藥水技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種用于電鍍鎳抗蝕層的褪鎳藥水及制備方法、化學(xué)褪鎳工藝，所述褪鎳藥水含有：50～350g/L的硝酸溶液、5～30g/L的雙氧水溶液、1～10g/L的苯磺酸、2～12g/L的尿素、0.5～4g/L的陰離子表面活性劑、1～10g/L的咪唑類雜環(huán)及其衍生物，余量為水。本發(fā)明解決現(xiàn)有技術(shù)中傳統(tǒng)化學(xué)褪鎳藥水體系的使用溫度高、速度慢及褪除工藝復(fù)雜的問題。上述褪鎳藥水在處理含電鍍鎳抗蝕層的線路板時，控制褪鎳藥水溫度在20～40℃范圍即可快速、有效褪除銅金屬表面的電鍍鎳層，露出光亮無印跡的金屬銅線路層，滿足后續(xù)自動光學(xué)檢測(AOI)工序?qū)︺~面表觀和光亮度要求。