本發(fā)明公開了一種提高
釹鐵硼磁體耐腐蝕性能的方法,利用原子層沉積技術(shù)在釹鐵硼磁體表面形成耐腐蝕納米薄膜-二氧化鈦。其主要步驟為:1)將燒結(jié)釹鐵硼磁體待加工表面進(jìn)行打磨,拋光、清洗和干燥預(yù)處理;2)將預(yù)處理的燒結(jié)釹鐵硼磁體放入原子層沉積設(shè)備的固定臺(tái)架上,并進(jìn)行預(yù)熱處理;3)在釹鐵硼磁體表面沉積一層三氧化二
鋁;4)在釹鐵硼磁體表面沉積一層二氧化鈦。原子層沉積技術(shù)的制備過程不產(chǎn)生酸堿等廢水,工藝流程簡單,是一種環(huán)境友好的制備方法。
聲明:
“利用原子層沉積提高釹鐵硼磁體耐腐蝕性能的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)