本發(fā)明公開了一種用于制備高質(zhì)量氧化鋅薄膜的藍(lán)寶石襯底原位處理方法,即利用等離子體輔助分子束外延(P-MBE)設(shè)備,分三個(gè)步驟原位處理藍(lán)寶石襯底,從而為高質(zhì)量氧化鋅薄膜的制備提供一個(gè)良好的生長模板的方法。首先在低溫下對襯底進(jìn)行氧等離子體處理,然后在超高真空條件下低溫沉積金屬鋰或鎂,最后進(jìn)行退火處理獲得帶有均勻氧化鋰或氧化鎂修飾層的藍(lán)寶石表面;該方法可有效解決目前襯底處理工藝難以實(shí)際應(yīng)用的問題,從而提高氧化鋅外延薄膜的結(jié)晶質(zhì)量。在按本發(fā)明所獲得的藍(lán)寶石表面修飾層上制備得到的ZnO薄膜結(jié)晶質(zhì)量大幅度提高,具有非常好的光學(xué)性能,適用于高性能光電子器件如紫外探測器等的制作。