本發(fā)明公布了一種陰離子吸附劑及其制備工藝,屬于環(huán)保技術(shù)和化工領(lǐng)域。本發(fā)明以鈉基蒙脫石和聚二烯丙基二甲基氯化銨為原料,經(jīng)高速分散剝片、插層改性和烘干制粉制得成品。獲得的成品中聚二烯丙基二甲基氯化銨(PDDA)與剝片后的蒙脫石經(jīng)過插層反應(yīng)形成蒙脫石片層與聚合物的納米
復(fù)合材料,具備良好的陰離子垃圾吸附能力。該種陰離子吸附劑材料制備方案簡單易行,易于工業(yè)化,使用過的材料可通過酸洗實現(xiàn)循環(huán)應(yīng)用。
聲明:
“陰離子吸附劑及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)