本發(fā)明涉及一種在基體材料上形成的高溫抗燒蝕涂層及其制備方法和應(yīng)用。高溫抗燒蝕涂層包括依次在基體材料上形成的SiC過渡層和由ZrC、SiC和Gd
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3混合而成的ZrC?SiC?Gd
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3復(fù)相阻氧層;在ZrC?SiC?Gd
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3復(fù)相阻氧層中,Gd
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3的摩爾百分?jǐn)?shù)為10~20%。所述方法包括:用化學(xué)氣相沉積法制備SiC過渡層;用真空等離子噴涂法制備ZrC?SiC?Gd
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3復(fù)相阻氧層。本發(fā)明中的高溫抗燒蝕涂層具有高溫自愈合性能可阻止氧化性氣氛向材料內(nèi)部遷移,延長(zhǎng)涂層高溫下抗燒蝕的使用時(shí)間,對(duì)陶瓷基
復(fù)合材料起到有效防護(hù)作用;本發(fā)明的高溫抗燒蝕涂層具有孔隙率小、結(jié)合強(qiáng)度高以及高溫抗燒蝕性能優(yōu)異等優(yōu)點(diǎn)。
聲明:
“在基體材料上形成的高溫抗燒蝕涂層及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)